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    TA1高純鈦靶99.9%鈦圓靶濺射圓靶

    發布時間:2020-11-13 14:59:52 丨 瀏覽次數:326

     

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    鈦靶材

    TA1高純鈦靶99.9%鈦圓靶濺射圓靶

    鈦含量≥:99.8(%)  雜質含量:0.02(%)  重量:不等(kg/塊) 

    牌號:TA0,TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)  

    鈦圓靶 :技術條件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97 

    鈦板靶 :技術條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93

    用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業 


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